加工流程及方法：激光加工是利用高能量密度的均匀激光束作为热源,在加工陶瓷材料表面局部点产生瞬时高温,局部点熔融或汽化而去除材料激光加工是一种无接触、无摩擦式加工技术,加工过程中不需模具,通过控制激光束在陶瓷材料表面的聚焦位置,实现对三维复杂形状材料的加工激光加工适合于在陶瓷材料上进行微钻孔、微切割,制作微结构目前已能加工直径为4~5μm、深径比达10以上的微孔通常所用激光源为CO和Nd:YAG激光。
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氮化硅（Si3N4）是一种重要的结构材料，而化学性能方面,它还有耐腐蚀、抗氧化等优点，氮化硅在正常条件下一般认为有两种同素异构体，即α相和β相，α相一个晶胞为Si12N16，而β相一个晶胞为Si6N8。
陶瓷烧结温度范围氮化硅的烧结与一般陶瓷的烧结工艺不同，采用的是反应烧结法，此法制造的氮化硅陶瓷，不能达到很高的致密度，一般只能达到理论密度的79％左右，不能制造厚壁部件。提高氮化硅陶瓷致密度的有效方法之一就是在高温下进行加压烧结，由此可得到热压氮化硅陶瓷，其室温抗弯强度一般都在～MPa。
氮化硅陶瓷耐高温多少度氮化硅化学方程式Si3N4乳白色粉末状结晶;溶点℃,相对密度3.44克/公分(20℃)。氮化硅陶瓷属高温难溶化合物，无熔点，抗高温蠕变能力强，不含粘结剂的反应烧结氮化硅负荷软化点在1℃以上。氮化硅陶瓷在℃以上能使过渡金属（见过渡元素）氧化物、氧化铅、氧化锌和二氧化锡等还原,并放出氧化氮和二氧化氮。
新型氮化硅陶瓷的性能特点和应用氮化硅陶瓷在机械工业中用于制造高速车削工具、轴承、金属零件热处理支架、转子发动机叶片、燃气轮机导向叶片、涡轮叶片等。在化学工业中，球阀、泵体、密封环，过滤器、热交换器部件、固定催化剂载体、燃烧船、蒸发容器等。都是人造的。在半导体、航空、原子能和其他工业中，它被用于制造开关电路基板、薄膜电容器、经受高温或剧烈温度变化的电绝缘体、天线罩、导弹尾喷管、原子反应堆中的支撑物和间隔物、核裂变物质的载体等。在医学工程中，可以制造人工关节6，并且正在开发的氮化硅-quality全陶瓷发动机可以替代相同类型的金属发动机。