二氧化硅抛光液硅溶胶

川研公司的氧化硅抛光液经过严格的粒径控制和专业的加工工艺，具有抛光效率高、粒度均匀、抛光后容易清洗等特点。

产品特点：

1.分散性好、不易结晶。

2.粒径分布广泛:5-nm。

3.高纯度（Cu2+含量小于50ppb），有效减小对电子类产品的沾污。

4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。

5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

使用方法：

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释

2.稀释后,粗抛时调节PH至11左右,精抛时调节PH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

3.循环抛光可以用原液。

储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35°。

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在零度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

安全处置：

1.车间内必须保持良好的通风状况。

2.避免放置在儿童能接触到的地方。如与眼睛或皮肤接触，请用大量清水冲洗。

3.在使用时请勿进食或吸烟。

4.使用前可参阅安全技术说明书。

使用行业：

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